半导体清洗剂 INT-80
| 产品参数 | 应用指南 | ||
| 应用行业 | 适用材质 | 应用工艺 | |
| 形态：无色液体 ph值（5%）：7±1 |
☑半导体 |
抛光后晶圆的清洗 | 温度：50-65℃ 浓度：3-8%开槽 |
| 突出特点 | |||
| （1）有效去除铜抛光后表面颗粒和化学物残留 （2）防止铜表面腐蚀，降低抛光后晶圆表面缺陷 （3）产品可适用于130-28nm的铜制程抛光后清洗 |
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| 产品参数 | 应用指南 | ||
| 应用行业 | 适用材质 | 应用工艺 | |
| 形态：无色液体 ph值（5%）：7±1 |
☑半导体 |
抛光后晶圆的清洗 | 温度：50-65℃ 浓度：3-8%开槽 |
| 突出特点 | |||
| （1）有效去除铜抛光后表面颗粒和化学物残留 （2）防止铜表面腐蚀，降低抛光后晶圆表面缺陷 （3）产品可适用于130-28nm的铜制程抛光后清洗 |
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